次世代DRAMの製造と半導体人材の育成において広島県と連携：キャリアニュース
Micron Technologyは、広島県と連携して、次世代DRAMを製造することに加え、強固で高度な技術を持つ半導体人材の育成を目指すことを発表した。広島大学を含む日米の11大学とともに、人材の育成を進めていく。
Micron Technologyは2023年5月22日、広島県と連携して、次世代DRAMを製造することに加え、強固で高度な技術を持つ半導体人材の育成を目指すことを発表した。広島大学を含む日米の11大学とともに、人材の育成を進めていく。
同社は、日本政府による支援を前提に、1γ（ガンマ）ノード次世代DRAMを量産するためのEUV（極端紫外線）技術を日本に初めて導入し、エコシステム全体を進展させる。
半導体人材の育成に向け、最先端のカリキュラムを策定
また、同社とその他の業界パートナーによって設立された「UPWARDS for the Future（半導体の未来に向けた人材育成と研究開発のための日米大学パートナーシップ）」には、日米の11大学が参画し、最先端の半導体カリキュラムを策定して、大学が産業界と関わる機会を創出する。これにより、新たな研究を進めて半導体人材の育成を拡大させていく。
日本国内にあるMicron Technologyの複数の拠点は、最先端DRAM技術の研究開発ロードマップの中核を担っている。2013年以降、同社は日本に130億ドル（約1兆8229億9000万円）以上を投資している。エンジニアと技術者を日本国内に4000人以上擁しているほか、過去5年間に国内で1500人以上の人材を新規で雇用している。また、広島工場では世界のDRAM供給量の10％近くを製造している。
東広島市長の高垣広徳氏は、グローバル企業や研究者を呼び込むための次世代学園都市づくりを目指していることに触れ、「国、県、大学および地元企業とも連携し、Micron Technologyの持続的な企業展開に向け、環境を整備していきたい」と話している。
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