半導体製造における用途拡大で高純度フッ化水素の供給体制を強化：工場ニュース

昭和電工は、高純度HFの需要拡大に対応するため、川崎事業所にある既存設備の生産能力を従来の2倍に増強し、併せて中国に新たな製造設備を建設する。

[MONOist]

　昭和電工は2015年4月21日、高純度HF（フッ化水素）の供給体制を強化すると発表した。川崎事業所にある既存設備の生産能力を従来の2倍に増強し、中国に新たな製造設備を建設する。

　高純度HFは、半導体の製造工程において、主にクリーニングに用いられる特殊ガス。近年、化学的酸化物除去処理（Chemical Oxide Removal：COR）と呼ばれるドライエッチング工程でも、使用が増えているという。

　同社では、独自の精製技術と保存容器内での品質の長期安定化により、エッチング用途に必要とされる高純度を維持することに成功。同用途における高純度HFの採用を拡大してきた。

　さらにCORは、従来のプラズマエッチングやウエットエッチングに代わる微細化エッチングとして注目され、同工程で使用される高純度HFの需要も増加している。そのため同社では、2015年3月に川崎事業所の製造設備を増強し、併せて、100％出資子会社である上海昭和電子化学材料（中国・上海市）内に新たな製造設備の建設を決定した。同設備は、川崎事業所と同等の生産能力を持つ予定で、2015年4月中に着工、同年中の稼働を目指す。

　高純度HFは、薬液によるウェットエッチングに比べて生産性を向上でき、プラズマを利用したプラズマエッチングより低コストのため、今後さらなる需要拡大が見込まれるという。同社では今後、品質の強化と安定した供給体制を整え、こうした需要に対応するとしている。

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