最先端プロセス向け半導体フォトレジストの製造ラインを増設：工場ニュース

住友化学は、大阪工場の製造ラインを増設し、今後も継続的な成長が見込まれる液浸ArFやEUVなど、半導体フォトレジストの生産能力を約4倍に向上する。

» 2021年03月02日 07時00分 公開
[MONOist]

　住友化学は2021年2月8日、大阪工場（大阪市此花区）の製造ラインを増設し、半導体フォトレジストの生産能力を向上すると発表した。新製造ラインは2022年度上期に稼働開始する。

　同社は、半導体製造工程でのパターン形成に使用される感光性樹脂フォトレジストのうち、液浸ArF（フッ化アルゴン）露光用レジストについて世界的に高いシェアを占める。また、EUV（極端紫外線）露光用レジストも、採用が決定している有力顧客の量産化に応じて出荷を増加する計画だ。

　半導体市場は、データ通信のさらなる高速化や大容量化などにより、今後も継続的な成長が見込まれる。特に、液浸ArFやEUVなどの最先端プロセス向け半導体フォトレジストは、今後年率6％で需要が拡大する見通しになっている。

　同社は、長期的な需要を見据えて、2019年度に先端フォトレジストのプラントを設置。今回、同プラントに製造ラインを増設することで、生産能力を約4倍に高める。

　2019年度にはプラント設置のほか、開発効率の向上や品質保証体制を強化するためのクリーンルーム棟新設と新規評価装置の導入を決定。これらも2022年度上期に完成予定で、同社は22～24年度に事業規模の大幅拡大を目指す。

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