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リスク分散を目指し台湾にフォトレジスト関連製品の新工場を建設：工場ニュース

信越化学工業は、フォトレジスト関連事業の拡大を目指し、台湾に工場を新設する。同社のフォトレジスト関連工場は新潟の直江津工場と併せて2拠点目となる。

» 2015年04月09日 17時00分 公開
[三島一孝，MONOist]

　信越化学工業は2015年4月9日、フォトレジスト関連事業の拡大を目指し、台湾に工場を新設することを発表した。現在、台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は1年程度で投資金額は約130億円を見込んでいる。

　フォトレジストは、半導体デバイスの製造に欠かせない感光性の樹脂。シリコンウエハーにレーザー光などの光を照射し、集積回路を焼き付ける露光工程で使われる。信越化学では1991年からフォトレジストの研究開発を開始。微細化に向けた光源として、KrFエキシマレーザー用のフォトレジストにいち早く取り組み、1997年に直江津工場（新潟県）で生産を開始した。その後、ArFエキシマレーザー用のフォトレジストや、回路パターンの寸法精度を向上させる多層レジスト材料を開発し、事業成長を続けている。

　フォトレジスト関連製品の需要は、半導体デバイスの生産量の増加や微細化の進展により、アジアとアメリカで成長している。信越化学は、需要地の1つである台湾で生産を行うことで、フォトレジストの需要の伸びを着実に捉えるとともに、従来の直江津工場と併せフォトレジスト関連事業で2つの生産拠点を持つことでリスクの分散を実現する。


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