　スパッタリング法を用いて原子レベルで制御されたSb₂Te₃層状物質を形成、単層のMoS₂上に成膜することで、トランジスタのコンタクト抵抗の大幅な低減に成功した。また、Sb₂Te₃の高い熱安定性により、同技術で作製したMoS₂トランジスタは、半導体製造工程に対して十分な耐熱性を示すことが期待される。

450℃熱処理後のSb<sub>2</sub>Te<sub>3</sub>、MoS<sub>2</sub>断面の電子顕微鏡写真およびラマンスペクトル

450℃熱処理後のSb₂Te₃、MoS₂断面の電子顕微鏡写真およびラマンスペクトル［クリックで拡大］出所：産業技術総合研究所

　MoS₂は次世代トランジスタのチャネル用半導体材料として注目されているが、一般的な金属電極とMoS₂接触面の高いコンタクト抵抗が、トランジスタの高性能化の妨げとなっていた。同技術が、次世代ロジック半導体として期待される2次元材料トランジスタの高性能化に貢献する。

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なぜ日本で2nmの先端ロジック半導体を製造しなければならないのか
半導体などマイクロエレクトロニクス製造サプライチェーンの国際展示会「SEMICON Japan 2022」が2022年12月14日に開幕し、オープニングキーノートパネルとして、新たな半導体製造会社であるRapidusなども含む「半導体・デジタル産業戦略」に深く関わる主要メンバーが登壇し「グローバルリーダーを目指す産官学戦略」をテーマに、日本における半導体産業の在り方や社会変革の方向性などについて語った。
2nm先端ロジック半導体の国産目指すRapidus、北海道千歳市に製造拠点建設を決定
Rapidusは、新たに建設する最先端半導体工場の建設予定地として、北海道千歳市を選定したことを発表した。
半導体は21世紀のキーパーツ、衰退した産業基盤を国家戦略でカバーできるのか
半導体関連の国際業界団体であるSEMIジャパンは2021年6月22日、経済産業省が主催する「半導体・デジタル産業戦略検討会議」の内容を中心に同省担当者らが半導体関連の産業戦略を解説するセミナーを開催した。
先端ロジック半導体のファウンドリを国内誘致へ、半導体・デジタル産業の国家戦略
経済産業省は2021年6月4日、半導体産業やデジタル産業を国家戦略として推進する「半導体・デジタル産業戦略」を取りまとめ公開した。全ての産業の根幹にデジタル産業、半導体産業があると位置付け、先端ロジック半導体の量産化に向けたファウンドリの国内誘致推進などの戦略を紹介した。
今が復活のラストチャンス、日本政府が進める半導体産業戦略
日本ケイデンス・デザイン・システムズでは2022年7月15日に、「CadenceLIVE Japan 2022」を横浜ベイホテル東急で開催し、新製品の技術アップデートやユーザー事例の紹介などが行われた。本稿では、経済産業省デバイス・半導体戦略室長荻野洋平氏による招待講演の模様を紹介する。
2nm半導体の国産製造会社「Rapidus」始動、トヨタら8社が出資し5年で量産開始
経済産業省は2022年11月11日、次世代半導体の設計・製造基盤の確立に向けた取り組みとして、新しい研究開発組織「技術研究組合最先端半導体技術センター（LSTC）」の2022年内の立ち上げと、製造基盤確立に向けた研究開発プロジェクトの採択先を「Rapidus」に決めたことを発表した。