タイセーは、研究開発や試作、評価用途に適した小型真空リフロー炉「TR-200-300」を発売した。研究開発者が使いやすいサイズ感と実用性を両立し、研究開発現場の実験効率向上と内製化のニーズに対応する。
タイセーは2026年5月13日、研究開発や試作、評価用途に適した小型真空リフロー炉「TR-200-300」を発売したと発表した。研究開発者が使いやすいサイズ感と実用性を両立し、研究開発現場の実験効率向上と内製化のニーズに対応する。
外形寸法は520×370×192mmで、研究室や開発室、評価環境にも導入しやすい小型設計となる。ワークの状態が見えるため、はんだ付けのプロセスをリアルタイムで確認して観察しながら評価できる。真空環境下での加熱プロセスが現場で検討しやすくなるため、条件出しや試作、評価のスピード向上を支援する。
真空引きと窒素パージにより雰囲気コントロールした高度な評価、実験が可能で、温度プロファイルや接合条件の検討時に有効な評価環境の構築をサポート。条件差を見極めながら、再現性のある評価を実施できる。
最大昇温速度は120℃/min、最大降温速度は80℃/minで、酸素濃度は1%以下、真空度は0.1MPaとなる。本体重量は22.5kgで、卓上設置にも対応する。条件に応じた温度推移を自在に設定できるため、再現性の高い評価、検証が可能になる。テーマごとの検討も進めやすく、材料評価や基板実装評価、接合条件の最適化などに対応する。
研究開発や試作の現場では、製品化前に接合条件やプロセス条件を細かく検証する必要がある。従来は、接合条件の検証に時間がかかる、少量試作のために大規模設備を利用するなど、評価や運用、検証のしやすさに課題があった。
日機装技術研究所に新研究棟、生産自動化や複合材料などを研究開発
三井化学、研究開発のDXを加速するラボが完成
2nmプロセスGAAトランジスタの試作ウエハーで動作を確認
三菱電機、パワー半導体の開発製造拠点に開発試作棟を建設
三菱電機、パワー半導体の開発製造拠点に開発試作棟を建設Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
素材/化学の記事ランキング
コーナーリンク