　図研は2026年7月1日、TSMCの「Open Innovation Platform（OIP）」におけるEDA（電子設計自動化）アライアンスに参加したと発表した。最新のプロセスおよびパッケージング技術の採用を加速させ、顧客が消費電力、性能、面積や市場投入までの期間の目標を達成できるよう支援する。

　今回の提携により、同社はTSMCの技術を活用したマルチダイおよびチップレットベースの設計をサポートする機能を向上させる。高度化する設計ニーズに対応し、次世代のAI（人工知能）やHPC（高性能コンピューティング）、モバイルアプリケーションの設計目標達成に貢献する。

　市場におけるより高い性能と電力効率への追求は、プロセスおよびパッケージング技術におけるイノベーションを加速させ続けている。今回の連携を通じて、共通の顧客が半導体、パッケージ、PCB（プリント基板）の設計までをシームレスに統合し、複雑な開発ニーズに対応できるよう支援する。

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