800μmまでの厚みに対応する膜厚分布測定装置 マッピング表示は1分以内：材料技術

JFEテクノリサーチは、膜厚分布測定装置「FiDiCa」シリーズに、極厚膜モデルを追加した。シリコンウエハーなど厚みのある基材の膜厚分布を、短時間で高精細に測定できる。

[MONOist]

　JFEテクノリサーチは2025年6月10日、膜厚分布測定装置「FiDiCa（フィディカ）」シリーズに、極厚膜モデルを追加したと発表した。シリコンウエハーなど厚みのある基材の膜厚分布を、短時間で高精細に測定できる。

　FiDiCaシリーズは、光干渉方式の2次元分光干渉膜厚計で、面での測定により全面での膜厚データを取得できる。これまで50nm〜20μmの薄膜モデル、1〜150μmの厚膜モデルを展開している。

　新たに追加した極厚膜モデルでは、20〜800μm（0.8mm）の厚みに対応。従来の点測定では数時間かかっていたバルクウエハーやフィルム、ガラス基板などを、高速全面測定できる。

従来法（左）と膜厚分布測定装置（右）の比較［クリックで拡大］ 出所：JFEテクノリサーチ

　直径300mmのシリコンウエハーの場合、0.3mm間隔、測定点数約100万点の厚み計測と、厚み分布のマッピング表示を1分以内に完了できる。厚み分解能は、目的に応じて0.1〜10nmまで選択して計算可能だ。

シリコンバルクウエハーの測定例。外観写真（左）と膜厚分布図（右）［クリックで拡大］ 出所：JFEテクノリサーチ

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