ウエハー表面の研磨工程を効率化、新機構で高性能化したCMP装置：FAニュース

荏原製作所は、ウエハー表面を効率的に研磨するCMP装置「F-REX300XA型」を発表した。新たに開発した高効率搬送機構やWPH最適化アルゴリズムを搭載するなど、デバイスの高性能化により生産性を向上する。

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　荏原製作所は2021年12月8日、ウエハー表面を効率的に研磨するCMP装置「F-REX300XA型」を発表した。

CMP装置「F-REX300XA型」 出所：荏原製作所

　F-REX300XA型は、新たに開発した高効率搬送機構やWPH最適化アルゴリズムを搭載。デバイスの高性能化により、生産性の向上につなげている。

　1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式の従来の構造は維持しつつ、フレキシブル搬送や加工のばらつきを低減する研磨構造、高度なクロスコンタミ対策を搭載することで、歩留まり率を向上する。

　また、前機種「F-REX300X型」に比べ、消費電力を10％削減した。設計の見直しにより部品点数を減らすことで、サプライチェーンにおけるCO₂排出量の削減にも寄与する。

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