　同社は、先端半導体に必要となる半導体用スパッタリングターゲットの生産能力を強化するため、約230億円の増産投資を決定した。茨城県ひたちなか薄膜材料工場の半導体用スパッタリングターゲットの製造設備一式を増強し、生産能力を2023年度比で1.6倍にする。2027年度下期より順次稼働開始を予定している。

　今回の能力増強により、今後の需要拡大に応えられる安定供給体制を構築し、既存の半導体用スパッタリングターゲット生産の中核拠点である茨城県の磯原工場の技術とノウハウを活用し、より効率的な生産ラインの構築を計画している。

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