山形工場にSiCエピタキシャルウエハーの建屋が完成、2026年に稼働工場ニュース

レゾナックは、レゾナック・ハードディスクの山形工場で、SiCエピタキシャルウエハーの生産建屋の竣工式を開催した。各種設備を導入して生産に向けた準備を進め、2026年に稼働する予定だ。

» 2025年10月02日 11時00分 公開
[MONOist]

 レゾナックは2025年9月12日、レゾナック・ハードディスクの山形工場(山形県東根市)で、SiC(炭化ケイ素)エピタキシャルウエハー生産建屋の竣工式を開催した。

竣工式記念撮影 竣工式記念撮影[クリックで拡大] 出所:レゾナック

 新たに建設した施設は、2023年6月に経済産業省から認定を受けた、経済安全保障推進法に基づく特定重要物資の半導体部素材の供給確保計画に向けた取り組みの一環となる。パワー半導体向けSiCエピタキシャルウエハーの生産体制を強化するため、同社は2024年9月より建設を進めていた。同施設の建築面積は5832m2となる。

生産建屋の外観 生産建屋の外観[クリックで拡大] 出所:レゾナック

 レゾナックグループでは、半導体においてエネルギーの効率化に貢献するSiCエピタキシャルウエハーの事業をコア成長事業と位置付けている。今後、新施設に各種設備を導入して生産に向けた準備を進め、2026年の稼働を予定している。

SiCエピタキシャルウエハー(左:150mm、右:200mm) SiCエピタキシャルウエハー(左:150mm、右:200mm)[クリックで拡大] 出所:レゾナック

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