　近年、最先端のロジック半導体ではEUV光源を用いるEUVリソグラフィによる生産が進んでいる。DNPは、2016年にフォトマスク専業メーカーとして世界で初めて（同社調べ）マルチ電子ビームマスク描画装置を導入するなど、高い生産性と品質を備えた先端領域の半導体製造の対応を強化してきた。2023年には、3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2nm世代の開発を開始した。

　今回は、さらなる微細化のニーズに応えるために、2024年度中には2台目と3台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働させるなど、2nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格化していく。

　なお、NEDOのポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業においてRapidusが受託した「（d1）高集積最先端ロジック半導体の製造技術開発」にDNPは再委託先として参画している。

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