シャープは、技術展示イベント「SHARP Tech-Day'24」において、Siパワー半導体を用いて次世代に位置付けられるSiCパワー半導体と同等レベルの低損失を実現できるFCR回路技術に関する参考展示を行った。
シャープは、技術展示イベント「SHARP Tech-Day'24」(2024年9月17〜18日、東京国際フォーラム)において、Si(シリコン)パワー半導体を用いて次世代に位置付けられるSiC(炭化シリコン)パワー半導体と同等レベルの低損失を実現できるFCR(Fast Commutation Rectifier)回路技術に関する参考展示を行った。数年以内に個別部品を用いたインバーター回路を家電向けに開発した後、モジュール化やチップレベルの集積による小型化を進めていく方針である。
Siパワー半導体のスイッチング動作時における損失は、寄生ダイオードに起因して流れる逆回復電流によるところが大きい。FCR回路技術では、Siパワー半導体に対して低耐圧ながら高速電流を流せるSiパワー半導体を直列に配置し、キャパシターを使って同期動作させることで、スイッチング動作を行うSiパワー半導体に流れる逆回復電流を抑制する。FCR回路にすることで、従来のSiパワー半導体単体と比べてスイッチング損失は4分の1に、三相インバーター回路に適用する場合には電源全体の損失を2分1に低減できるという。
耐圧600V/定格電流40Aのデバイスで比較すると、従来のSiパワー半導体単体は単価が400円、スイッチング性能係数が0.05であるのに対し、SiCパワー半導体はスイッチング性能係数が0.25と大幅に上回るものの、単価も1200円と大幅に高くなってしまう。これに対してFCR回路技術は、単価は500円とSiパワー半導体単体とほぼ同程度であるとともに、スイッチング性能係数は0.20〜0.25とSiCパワー半導体並みに高められる。
FCR回路技術を適用するSiパワー半導体としてはSi-MOSFETを想定しており、白物家電などで一般的な耐圧1000V以下のインバーターやDC-DCコンバーター向けを想定している。SiCやGaN(窒化ガリウム)などの次世代パワー半導体の世界市場規模は、2035年に3.5兆円となり、Siパワー半導体の4.3兆円に肩を並べることが想定されているが、低コストで省電力を実現できるFCR回路技術により、次世代パワー半導体の市場を獲得して行きたい考えだ。
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