　今回の製品は、従来品と同様の高い透明性と良好なナノインプリント性があり、スピンコートで、均一な薄膜を形成することができる。耐光性が従来品を上回ることから、可視光領域での信頼性が求められるAR（拡張現実）／VR（仮想現実）ヘッドセット向け導波路などの光学デバイス用途に対して適用拡大が期待されている。

　具体的には、高屈折率ガラス基板に屈折率整合し、樹脂にナノメートルサイズパターンの型を押し当てることで微細加工するナノインプリントにより線幅45～500nmのナノパターンを形成することが可能な他、波長400～800nmの範囲で高い光透過性がある。用途としてはナノインプリント用樹脂やコーティング剤を想定している。

開発品のナノインプリントパターン作製例（左）と仕様（右）［クリックで拡大］出所：NTTアドバンステクノロジ

開発の経緯

　近年、AR／VRヘッドセット向け導波路などの光学デバイス形成にUVナノインプリントプロセスが活用されている。なかでも視野角の拡大などを目的として、高屈折率な微細構造を形成する上で高屈折率ナノインプリント樹脂の需要が高まっている。しかし、屈折率1.9以上の樹脂は屈折率1.8以下の樹脂に比較すると、耐光性が大幅に劣るという課題があった。そこで、同社は今回の製品を開発した。

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