High-NA EUV露光向け機能を搭載した高精度電子線計測システムを発売：FAニュース

日立ハイテクは、高精度電子線計測システム「GT2000」を発売した。High-NA EUV露光向けに低ダメージ高精度計測機能、超高速多点計測機能を搭載したほか、測長値差の極小化を図っている。

[MONOist]

　日立ハイテクは2023年12月12日、高精度電子線計測システム「GT2000」を発売した。

　GT2000は、High-NA EUVリソグラフィー工程向けに、同社独自の高速スキャン機能と、CD-SEM（測長SEM）としては初の超低加速電圧100V条件を組み合わせた。これにより、ダメージを抑えつつ高精度な計測ができる。

高精度電子線計測システム「GT2000」 出所：日立ハイテク

　超高速多点計測モードも搭載し、開発や試作段階での、製造プロセス条件決めや異常検出が素早くできる。また、GAAやCFETなどの3Dデバイス構造向けに、効率的に反射電子を検出する新しい高感度反射電子用検出システムを搭載。複雑化するデバイス構造を高精度に撮像できる。

　プラットフォームと電子光学系を刷新しており、従来機の課題だった装置間での測長値差の極小化を図った。

⇒その他の「FAニュース」の記事はこちら