検出精度とスループットを向上した半導体生産ライン向けウエハー欠陥検査装置：FAニュース

日立ハイテクは、半導体生産ライン向け日立暗視野式ウエハー欠陥検査装置「DI4600」を発売する。データ処理能力の向上やウエハー搬送時間の短縮などにより、検出精度とスループットが向上した。

[MONOist]

　日立ハイテクは2023年12月6日、半導体生産ライン向け日立暗視野式ウエハー欠陥検査装置「DI4600」を発売すると発表した。検出精度とスループットの向上により、高度化する半導体の製造プロセスおよび検査に対する要求に応える。

日立暗視野式ウエハー欠陥検査装置「DI4600」を発表 出所：日立ハイテク

　同装置は、専用サーバの追加により、光や信号などのデータ処理能力が大幅に向上し、パターン付きウエハー表面上の異物や欠陥情報の検出精度を高めている。また、ウエハー搬送時間の短縮やウエハー検査中の動作の改良、データ処理シーケンスの最適化により、従来機種比で約20％スループットが向上した。

　ウエハー検査装置は、半導体生産ラインにおいて加工中のウエハー上の異物や欠陥を検査し、半導体製造装置の状態変化や傾向を捉えることで歩留まり管理に寄与する。性能と機能を向上した新製品により、迅速かつ高精度な管理が可能になり、歩留まり向上およびコスト競争力強化に貢献する。

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