　ArFフォトレジストとEUVフォトレジストは半導体回路の微細化に不可欠で、今後も市場成長が見込まれる。そのため、原料となるリソマックスも需要拡大が予想される。三菱ケミカルグループでは、神奈川県横浜市の関東事業所鶴見地区でリソマックスを生産しているが、その需要拡大に対応するため、量産設備の新設を決定した。

　量産設備の稼働は、ArF用が2025年10月、EUV用は同年9月に開始予定。これによりArF用は生産能力が2倍以上になり、またEUV用は初の量産開始となる。

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