過熱するNAND型フラッシュの開発競争、リソグラフィ技術巡り先端技術の採用競う：電子ブックレット

[EE Times Japan]

過熱するNAND型フラッシュの開発競争、リソグラフィ技術巡り先端技術の採用競う

　アイティメディアがモノづくり分野の読者向けに提供する「＠IT MONOist」「EE Times Japan」に掲載した主要な記事を、読みやすいPDF形式の電子ブックレットに再編集した「エンジニア電子ブックレット」。本日はEE Times Japanの記事『過熱するNAND型フラッシュの開発競争、リソグラフィ技術巡り先端技術の採用競う』をお届けします。

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過熱するNAND型フラッシュの開発競争、リソグラフィ技術巡り先端技術の採用競う

NAND型フラッシュメモリ市場は、半導体業界で最も競争が激しい市場だろう。競争に勝ち抜くには、チップコストの低減が特に重要だ。各メーカーは、1枚のウエハーで製造できるチップ数を増やすことと、製造プロセスや材料構成を簡素化することの両方を追及している。各社は製造プロセスの微細化を進めるため、先進リソグラフィ技術を積極的に投入し、メーカー間の開発競争が過熱している。

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