低発塵／低アウトガスのPFASフリー真空用グリース、高真空下で使用可能：材料技術

THKは、「PFASフリー真空用グリース」の受注を開始した。PFASフリー、メタルフリーの処方と工程で製造し、低い蒸気圧と低アウトガス性能により、高真空下での使用に対応する。

[MONOist]

　THKは2026年4月30日、「PFASフリー真空用グリース（形番：AFPF）」の受注を開始したと発表した。

「PFASフリー真空用グリース」［クリックで拡大］ 出所：THK

　同製品は、PFAS（有機フッ素系化合物）フリー、メタルフリーの処方と工程で製造している。低い蒸気圧と低アウトガス性能により、高真空下での使用に対応する。低摺動かつ低発塵のため、転がり安定性に優れ、周辺環境を汚染せずに使用できる。

　直動製品に適しており、半導体製造装置内の汚染リスクを低減。スムーズな動きを可能にし、優れた潤滑性能を備える。

　人体への影響が懸念されるPFASは、欧米を中心に規制が強化されつつある。真空などの特殊環境で使用するフッ素系グリースの構成物質PFPE（パーフルオロポリエーテル）やPTFE（ポリテトラフルオロエチレン）でも、将来的な使用制限や製造、輸入禁止のリスクが高まっている。

　同社は、こうした環境規制リスクを踏まえ、THKオリジナルの真空用グリースを開発した。現在は国内でグリース単体の販売となっており、海外への展開は順次対応を予定している。

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