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EUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を増強、2022年に生産開始：工場ニュース
AGCは、グループ会社のAGCエレクトロニクスで、EUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を大幅に増強すると発表した。建屋拡張を含めた増強工事に2020年10月より着工し、生産開始は2022年を予定している。
AGCは2020年7月27日、グループ会社のAGCエレクトロニクスで、EUV露光用フォトマスクブランクス（EUVマスクブランクス）の供給体制を大幅に増強すると発表した。建屋拡張を含めた増強工事に2020年10月より着工し、生産開始は2022年を予定している。
EUVマスクブランクスは、低膨張ガラス基板の表面に複数の組成から成る膜を積層したもの。EUVフォトマスクは、EUVマスクブランクスの表面に半導体チップの回路原版を形成したもので、その回路をシリコンウェハ上に転写して半導体チップを形成する。
2003年にEUV露光技術を用いた半導体生産プロセスで使用する消耗部材であるフォトマスクブランクスの研究開発に着手した同社は、自社で保有する技術を融合して技術開発を進め、2017年にEUVマスクブランクスの生産を開始。今後のさらなる市場の伸長に対応するために供給体制の増強を決定した。
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