ニコン、解像度1.5μmの半導体後工程向けデジタル露光装置 1.0μmに改造可能:FAニュース
ニコンは、半導体アドバンストパッケージング向けに、解像度1.5μmのデジタル露光装置「DSP-110」を2027年4月に発売する。スループットを既存モデルから約40%向上させている。
ニコンは2026年10月13日、半導体アドバンストパッケージング向けに、解像度1.5μm(L/S)のデジタル露光装置「DSP-110」を2027年4月に発売すると発表した。大型基板にも対応し、510×515mm基板の場合で毎時72パネルのスループットを実現している。
半導体アドバンストパッケージング市場では、大型インターポーザーや多層FC-BGA基板向けの高密度配線に対する需要が拡大している。需要拡大に伴い、RDL(再配線層)露光技術の重要性が高まっているという。同社はこれまで、フォトマスクが不要で高解像度と高生産性を両立するデジタル露光装置を開発してきた。今回、解像度1.0μmのモデル「DSP-100」に続き、多様なニーズに応えるべくDSP-110を市場投入するとしている。
光学系の再設計でスループットを約40%向上
DSP-110は、解像度1.5μm向けに光学系を再設計することで、DSP-100と比較してスループットを約40%向上させた。±0.3μm以下の重ね合わせ精度を備え、顧客の生産効率の向上とトータルコストの低減に寄与するという。
対応する基板サイズは、角型基板で310×310mm、510×515mm、600×600mm、730×920mmなどの他、300mmなどのウエハーにも対応する。光源はi線相当となっている。
フォーカスマージンを拡大、将来の改造にも対応
DSP-110は、光学系の再設計により、フォーカスマージンを拡大している。多様な基板条件に対して安定したパターニングを実現し、歩留まりと量産安定性の向上に貢献するとしている。
また、アドバンストパッケージングの技術進化に伴い、RDL向けの露光装置にはさらに高い解像度が求められると予想される。同製品は、光学系を交換することで解像度1.0μmの装置に改造可能となっており、将来的なプロセスの高度化にも柔軟に対応できるという。
※本記事は制作段階で生成系AIを利用していますが文責は編集部に帰属します(ITmedia AI倫理ポリシー)。
Copyright © ITmedia, Inc. All Rights Reserved.
関連記事
前工程を知らずに後工程は理解できない〜半導体製造全体の流れをつかもう〜
半導体の高性能化において重要性が増す後工程を中心に解説する本連載。第1回は、半導体製造全体の流れを概観し、後工程を理解するために必要な前工程の基礎知識を整理する。
「ダイシング」を知らずに後工程は語れない〜ウエハーがチップへ変わる出発点〜
本連載では、半導体の高性能化において重要性が増す後工程を中心に解説する。前回は、半導体製造工程全体のイメージをつかむため、「前工程」を紹介した。今回は、後工程の入り口となる「ダイシング」について紹介する。
「ウエハーを切る」だけではない、ダイシング工程の知られざる世界
本連載では、半導体の高性能化において重要性が増す後工程を中心に解説する。前回は、ウエハーからチップを切り出すダイシング工程の役割と、その基本的な流れを紹介した。今回は、代表的なダイシング方法の特徴や使い分けを紹介する。
ニコン初の半導体デバイス製造後工程向け露光装置、600mm角の大型基板対応
ニコンは、半導体デバイス製造の後工程にあたるアドバンストパッケージング向けに、1.0μm(L/S)の高解像度かつ600mm角の大型基板に対応した、デジタル露光装置「DSP-100」の受注を開始する。
“後工程”で基板を下から3D検査、AIプログラミングやAIアシストも
サキコーポレーションは「第40回ネプコンジャパン」において、下面3D自動外観検査装置を披露した。
先端半導体パッケージ向け仮固定フィルムと剥離プロセスを開発、「すす」が出ない
レゾナックは、半導体の前工程や後工程で、ウエハーなどをガラスなどのキャリアに一時的に固定するための仮固定フィルムとその剥離プロセスを開発した。
