AI半導体向けレアメタル「ハフニウム」、第一稀元素が国内製造へ：材料技術

AIデータセンターなどの急速な普及で需要が高まるレアメタル「ハフニウム」。第一稀元素化学工業は、これまで困難だったハフニウムの国内製造技術を確立した。

[遠藤和宏，MONOist]

　第一稀元素化学工業は2026年8月25日、重要レアメタルの一種である「ハフニウム（元素記号：Hf、原子番号72）」の国内製造技術を確立したと発表した。

ハフニウム［クリックで拡大］ 出所：第一稀元素化学工業

2028年の国内量産化を目指す

　ハフニウムは、その優れた特性から、AI（人工知能）データセンター向け半導体や航空宇宙分野などに用いられる重要レアメタルで、今後の需要拡大が見込まれている。自然界ではジルコニウム鉱石に含まれているが、その含有量は微量で、高度な抽出技術が必要などの課題があるため、国内での商用生産は事例に乏しい状況だった。

　そこで同社は、共同研究を行うエマルションフローテクノロジーズの技術協力の下、基礎研究を経て、日本国内でのハフニウム製造技術およびサンプル試作技術を確立した。今後、2026年内に半導体用途などに向けたサンプル提供を開始し、生産規模拡大のための技術開発を経て、2028年の国内量産化を目指す。

　また、ベトナムの生産拠点においてジルコニウム鉱石を精製し、中間原料にあたる「ジルコニウム中間体」を製造している。その後、ジルコニウム中間体は日本に運ばれ、同社の生産拠点で最終製品であるジルコニウム化合物に加工される。この中間体に含まれる微量のハフニウムを、液体から特定成分を選択的に取り出す「溶媒抽出技術」により、日本国内で分離／精製する。

　加えて、中間体からハフニウムを分離することで、製品中のジルコニウム純度をより高めることが可能だ。同技術は、同社の主力製品であるジルコニウム化合物の特性を向上させ、市場からのより高度な要望に応えられるという。

ジルコニウムとハフニウムを分離する製造技術［クリックで拡大］ 出所：第一稀元素化学工業

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