JX金属が茨城事業所で高純度CVD／ALD材料の量産ライン立ち上げ完了：工場ニュース

JX金属は、茨城県日立市の茨城事業所（日立地区）で次世代半導体向け化学気相成長（CVD）／原子層堆積（ALD）材料の量産ラインの立ち上げが完了し、顧客への出荷を開始した。

[遠藤和宏，MONOist]

　JX金属は2026年3月6日、茨城県日立市の茨城事業所（日立地区）で次世代半導体向け化学気相成長（CVD）／原子層堆積（ALD）材料の量産ラインの立ち上げが完了し、顧客への出荷を開始したと発表した。

モリブデン化合物以外のCVD／ALD材料の開発も視野に

　生成AI（人工知能）の進化やデータセンターの増設を背景に、ロジック半導体や3D-NAND、HBM（広帯域メモリ）などの需要が拡大している。これらの半導体製品では配線の微細化／多層化が進み、微細構造への成膜を可能とするCVD／ALD材料へのニーズが高まっている。

　JX金属が手掛けるCVD／ALD材料としては、2026年2月25日開催の取締役会で完全子会社化を決議した東邦チタニウムの茅ヶ崎工場（神奈川県茅ヶ崎市）で製造している、3D-NAND向けのモリブデン化合物がある。

　今回立ち上げたJX金属の茨城事業所も、まずは3D-NAND向けモリブデン化合物からCVD／ALD材料の製造を開始した。今後は、その他のCVD／ALD材料の開発／製造も視野に入れている。

モリブデン化合物［クリックで拡大］ 出所：JX金属

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