JX金属が高純度CVD／ALD材料の供給体制を強化：工場ニュース

JX金属は、投資により神奈川県茅ヶ崎市の東邦チタニウム茅ヶ崎工場敷地内で次世代半導体向けCVD／ALD材料の生産設備増強が完了し、操業を開始した。

[遠藤和宏，MONOist]

　JX金属は2025年6月23日、同社傘下の東邦チタニウムの茅ヶ崎工場（神奈川県茅ヶ崎市）敷地内における次世代半導体向けCVD（化学気相成長）／ALD（原子層体積）材料の生産設備増強が完了し、操業を開始したと発表した。

　生成AI（人工知能）の進化を支える各種ロジック半導体や3D-NANDフラッシュメモリ、HBM（広帯域メモリ）などのメモリ半導体は、配線の微細化や多層化により高性能化が図られており、そのような微細かつ複雑構造への配線形成に欠かせないCVD／ALD材料のニーズが拡大している。

　一方で、次世代半導体の微細化進展に伴い、配線抵抗の増加、ノイズの増大といった課題が生じており、それらの解決策として配線構造の変更に加え、新しい材料を採用するケースも増えている。JX金属が製造を開始したCVD／ALD材料の1つであるモリブデン化合物は、それら課題の解決手段となるだけでなく、同社保有の高純度化技術により不純物を低減しているため、歩留まり向上にも貢献する。

　また、2024年11月には、グループ会社でドイツに拠点を有するTANIOBISで、多様なCVD／ALD材料の開発／生産が可能な設備が稼働しており、グローバルな供給体制を強化し、安定供給と事業継続性を確保する体制を整えた。

モリブデン化合物［クリックで拡大］ 出所：JX金属

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