東京エレクトロンが枚葉成膜装置を拡充、データ収集強化で微細化ニーズに対応：FAニュース
東京エレクトロンは、枚葉成膜装置「Episode 1」「Episode 2 DMR」「Episode 2 QMR」を発表した。装置データ収集力やエッジ情報処理システムを強化しており、解析アプリケーションなどを利用することで、装置の稼働率や作業効率を改善する。
東京エレクトロンは2024年7月8日、枚葉成膜装置のラインアップを拡充し、「Episode 1」「Episode 2 DMR」「Episode 2 QMR」を発表した。半導体デバイスの微細化に伴う複雑な成膜プロセスに対応し、高い生産性と環境性能を提供する。
Episode 1は、最大8プロセスモジュールを搭載可能なプラットフォームで、複数プロセスを連続処理できる。シリコンの自然酸化膜除去モジュール「OPTCURE」と、チタン成膜モジュール「ORTAS」により、先端ロジックデバイスの金属配線の接触抵抗を低減する。
Episode 2は、ウエハーを2枚同時に搬送するプラットフォームで、高い生産性と省フットプリントを両立している。2枚のウエハーを同時に成膜するEpisode 2 DMR（Duo matched reactor）は、「Triase＋」「EX-II」シリーズを継承しつつ、デバイスの3次元化や高アスペクト比に対応するさまざまな新機能を搭載する。
Episode 2 QMR（Quad matched reactor）は、4枚のウエハーを同時に成膜可能。独自のプラズマ源を搭載し、今後、市場の成長が見込まれるプラズマ成膜プロセスに対応する。
いずれも装置データ収集力やエッジ情報処理システムを強化しており、解析アプリケーションなどを利用することで、装置の稼働率や作業効率の改善につながる。なおEpisode 2 QMRは、2026年の量産採用を想定してリリースする計画だ。
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