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iAS搭載で生産を効率化、ミドルクリティカルレイヤー向けArF液浸スキャナー：FAニュース
ニコンは、ミドルクリティカルレイヤー向けArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発表した。スループットを約1.3倍向上して稼働安定性を大幅に改善したほか、iASを搭載しており、さまざまな半導体デバイスの効率的な生産に貢献する。
ニコンは2023年5月8日、ミドルクリティカルレイヤー向けArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発表した。「NSR-S622D」の後継モデルとして、2024年2月に発売する。
NSR-S625Eは、既存モデルよりスループットを約1.3倍向上し、稼働安定性を大幅に改善した。さらに、高速かつ高精度にウエハーを計測して、グリッドエラーを補正するiAS（inline Alignment Station）を搭載することで、同社の半導体露光装置において最高の生産性を備え、さまざまな半導体デバイスの効率的な生産に貢献する。
光源に波長193nmのArFエキシマレーザーを採用し、主な性能は解像度38nm以下、NA（開口数）1.35、縮小倍率は1：4、最大露光領域26×33mmとなっている。
アプリケーションの多様化で、必要とされる半導体は多岐にわたり、露光装置へのニーズも複雑かつ高度化している。同社はNSR-S625Eの開発によりラインアップを拡充し、顧客の多様なニーズに応える。
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