先端半導体用フォトレジスト技術棟を新設、3つの機能を集約：工場ニュース

住友化学は、大阪工場（大阪市此花区）に先端半導体用フォトレジストの技術棟を新設する。EUVやArFといった次世代半導体の製造に欠かせない材料の供給体制を強化するため、分散していた製造プロセス技術、品質評価、分析の3機能を1つに集約する考えだ。

[遠藤和宏，MONOist]

　住友化学は2026年4月9日、大阪工場（大阪市此花区）において、極端紫外線（EUV）やフッ化アルゴン（ArF）などの先端半導体用フォトレジストの供給体制を強化するため、製造プロセス技術、品質評価、分析に関する機能を集約した新棟の建設を決定した。新棟は地上6階建てで、延べ床面積は約3200m²だ。2027年度末の完成を目指している。

新棟イメージ図 出所：住友化学

プロセス管理の高度化を図る新施設

　フォトレジストは、半導体製造プロセスにおいて回路パターン形成に使用される感光性樹脂だ。先端ロジックおよびメモリ半導体の微細化／多層化を支える基幹材料で、生成AI（人工知能）の普及、IoT（モノのインターネット）化の進展、データセンター投資の拡大を背景に、今後も高性能、高品質と安定供給への要求が一層高まることが見込まれる。

　一方、住友化学は、ファインケミカル事業で培った有機合成技術を基盤とし、国内外でトップクラスの技術力を強みに先端半導体用フォトレジスト事業を拡大してきた。同社は、2022年に大阪工場に開発・評価新棟を建設し、先端露光機の導入を順次進めるなど、材料設計から評価までの開発力強化を推進した。

　しかし、その開発成果をタイムリーな供給につなげるには、製造ラインにおけるプロセス管理の高度化が必要な他、原料の先行評価から出荷に至るまで、各工程を高い精度で管理できるシステムが求められている。

　今回の新棟建設は、これまで工場内に分散していたEUVレジストとArFレジストの製造プロセス技術、品質評価、分析に関する機能を一体化し、プロセス管理の高度化を図ることを目的としている。

　これにより、量産立ち上げのスピード向上や工程の作り込みによる品質の一層の安定化を進め、より高いレベルの品質信頼性と供給安定性を実現。大阪工場において「開発〜量産化〜分析」までを一気通貫で担う最先端フォトレジスト向けの体制を拡充することで、グローバルな安定供給機能を強化する。

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