信越化学が群馬県伊勢崎市に半導体露光材料の新工場建設、約830億円を投資：工場ニュース

信越化学工業は、半導体露光材料事業で4番目の拠点となる新工場を群馬県伊勢崎市に建設することを発表した。

[MONOist]

　信越化学工業は2024年4月9日、半導体露光材料事業で4番目の拠点となる新工場を群馬県伊勢崎市に建設することを発表した。

　信越化学工業では伊勢崎市内に約15万m²の事業用地を取得し、半導体露光材料の製造および開発拠点を建設する。信越化学工業では、新工場における投資を段階的に実施する計画としており、第一期の投資は2026年までの完成を計画する。投資金額は第一期完工の段階で、事業用地の取得も含め約830億円を見込む。

　信越化学工業は1997年にフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県）でKrFフォトレジストの生産を開始。その後、フォトマスクブランクス、ArFレジスト、多層膜材料、EUVレジストなどの半導体露光材料の開発に成功し、事業化してきた。2016年に半導体露光材料事業の第2の生産拠点を福井県に、2019年には第3の生産拠点を台湾雲林県に建設し、製品供給の安定化に取り組んできた。

　半導体露光材料は、先端半導体の製造に不可欠な材料として需要が伸長しており、品質への要求も高度化し続けており、事業継続の観点からもリスク分散を図ることが可能な第4の生産拠点を新設することを決めたという。

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