半導体製造の生産性を向上、キヤノンが露光装置向けソリューション基盤を発売：FAニュース

[MONOist]

　キヤノンは2022年9月5日、半導体露光装置のサポートノウハウと半導体製造に関する膨大なデータを統合することで、サポート業務の効率化と最適なプロセスの提案を実現するソリューションプラットフォーム「Lithography Plus（リソグラフィ プラス）」のサービス提供を同日から開始したと発表した。

Lithography Plusのイメージ［クリックで拡大］ 出所：キヤノン

　キヤノンでは、KrF半導体露光装置やi線半導体露光装置のラインアップを展開しており、これらの露光装置を導入したユーザーのサポートを行っている。新たに展開する「Lithography Plus」は、キヤノンがこれまでに蓄積したノウハウやデータを統合的に活用しソリューションを創出するプラットフォームだ。

　具体的には、露光装置の状態を分析する機能や定期メンテナンス結果を分析する機能、装置が停止した要因を分析する機能を搭載。装置を操作するオペレーターは、これらのデータに基づき、部品交換やメンテナンスなどの装置運用計画を作成できる。露光装置の適切な品質管理が容易に行える。また、工場内の複数の露光装置データを俯瞰表示するダッシュボード機能を搭載し、メンテナンス業務の効率化を実現できる。

サポートルームのイメージ［クリックで拡大］ 出所：キヤノン

　また、露光装置の状態を監視し、異常発生や予兆を検知する「異常検知」機能を備えており、装置の突発停止を未然に防止する。自動復帰機能も搭載し復旧作業も支援する。自動復帰できない場合は、装置状態を分析し、復旧方法を示す復旧手順書を提示し、円滑な復帰を実現する。キヤノンのエキスパートエンジニアがリモートで装置状態を把握するリモートコンシェルジュサービスも提供する。

　これらの運用をサポートする機能に加え、品質や生産性を高めるプロセスソリューション機能も提供する。これまでにキヤノンが培ってきた露光装置の最適化事例を凝縮しレシピを最適化する。精緻な位置合わせや線幅制御設定が自動で最適化されたレシピを提供することで、新しい半導体プロセス投入の初期から高い歩留まりの実現を支援する。APC（Advanced Process Control）などのプロセス機器とのインタフェースも備え、生産管理システムとの連携も容易に行える。

≫「FAニュース」のバックナンバー