製造業が直面する技術流出リスクの実態／AI開発最前線、RSI実現に向けた研究：MONOist新着記事PickUp

2026年10月6日に公開されたMONOistの新着記事をピックアップしてお届けします。

[MONOist]

本日のトップストーリー

製造マネジメント インタビュー：
日本の技術はどこから漏れてしまうのか　企業が注視すべき「技術流出リスク」
近年、日本の製造業を取り巻く環境は急速に変化しており、技術流出対策がかつてないほど重大な経営課題として浮上している。そこで本稿では、会計監査で培ったリスクや内部統制のナレッジを生かして、企業のコンプライアンスやガバナンス、内部監査／統制、リスク管理などに関するアドバイスを行っているPwC Japan有限責任監査法人のアドバイザーに、製造業が直面する技術流出リスクの実態や、企業が取り組むべき具体的な対策などについて話を聞いた。

PwC Japan有限責任監査法人の西田昂生氏（左）と雨宮弦太氏（右）

記事を読む

FAイベントレポート：
AI時代のOTセキュリティ、「盾と矛」勝つのはどちらか？
本稿では、2026年9月17日に開催された「OT Security Leader's Summit 2026」より、TXOne Networks CEO テレンス・リュウ氏の基調講演を抜粋。AIの進化で高まる脅威に対抗し、「止めないオペレーション」を実現するための新たな防御モデルの要諦をひもとく。

脆弱性の発見はAIスケールの時代に 出所：TXOne Networks

記事を読む

「直感」と「論理」を使い分ける実践デザイン論（3）：
全てを「MUST」にするな　譲れない要件を目的と手段に解きほぐす
新しい価値を持つ製品開発では、要件定義の段階で議論が停滞しがちだ。本連載では、83Designが実践する「直感」と「論理」を使い分けるデザイン手法を紹介する。第3回は、部署ごとに示される「MUST」を問い直し、目的と手段に解きほぐして、要件の衝突を乗り越える方法を取り上げる。

各部署の「MUST」を70点ずつ採用すると、製品の魅力が薄れる

記事を読む

注目ニュース

人工知能ニュース：
2026年のAI開発最前線――「AIによるAI開発」から今後は再帰的自己改善「RSI」へ
ELYZAは、再帰的自己改善（RSI）の研究開発を推進する「ELYZA RSI Research」を立ち上げたと発表した。併せて、自律研究基盤を用いた音声対話AIエージェント「ELYZA Voice Agent」やフィジカルAIに関する取り組みについても紹介した。

ELYZAの沿革と研究開発 出所：ELYZA

記事を読む

製造ITニュース：
“フィジカルAIの耳”やスマートグラス向けミラーなど　CEATEC 2026の注目技術
電子情報技術産業協会（JEITA）と日本自動車工業会（自工会）は2026年10月13〜16日に幕張メッセで開催する「CEATEC 2026」および「Japan Mobility Show Bizweek 2026」の概要と、出展企業の中から優れた技術を表彰する「CEATEC AWARD 2026」の受賞結果を公表した。

左からCEATEC エグゼクティブプロデューサーの鹿野清氏、自工会 モビリティショー委員会 ショー広報部会 部会長の新田梢氏

記事を読む

材料技術：
防汚と防曇を両立した吸水型防曇樹脂、モスアイ構造で低反射も実現
デクセリアルズは、防曇と防汚を両立した「吸水型防曇樹脂」を開発した。多量の水蒸気にも耐え、汚れもはじく画期的なメカニズムや、モスアイ構造を組み合わせて透過率を高めた技術とは？

穴が開いているように見える部分が低反射＋防曇樹脂

記事を読む

その他の最新ニュース

• 人工衛星を過酷な環境から守る新たなガラス、放射線による着色を抑制

※試験運用中です。