ADEKA、半導体EUVレジスト用材料の生産能力を2倍に：工場ニュース

ADEKAは、極端紫外線（EUV）など先端半導体リソグラフィ工程に必要なレジスト用「光酸発生剤」の生産設備増強を発表した。千葉工場に約10億円を投じてラインを増設し、生産能力を従来の約2倍に引き上げる。

[遠藤和宏，MONOist]

　ADEKAは2026年8月20日、極端紫外線（EUV）をはじめとする半導体の先端リソグラフィ工程で使用される半導体レジスト用光酸発生剤の生産設備を増強することを決定したと発表した。千葉工場（千葉県袖ケ浦市）の既存建屋内に製造ラインを増設し、2028年9月に営業運転を開始する予定だ。

PAGモノマーの開発／評価も加速

　半導体は現代の戦略物資として、世界的に投資が活発化しており、市場は2026年に1.5兆ドル規模へ前倒しで拡大するなど、急速な成長を続けている。これに伴い、半導体の微細化に必要なフォトレジスト市場も拡大しているほか、露光技術の進化やPFASフリーなどの環境対応により、材料に求められる性能や品質レベルも一段と高度化している。

　そこで同社は、半導体材料事業において、フッ化アルゴン（ArF）やEUVなどの超微細加工が求められる先端リソグラフィ領域を重点分野と位置付け、化学増幅型レジスト（CAR）用光酸発生剤や金属酸化物レジスト（MOR）用金属化合物の開発、供給体制の強化を進めている。

　今回の追加投資は、旺盛な需要が続くEUVリソグラフィ向け光酸発生剤の供給能力を高めるとともに、1ppbレベルの厳格なメタル管理を維持しながら、生産体制の最適化を図るものだ。

千葉工場の光酸発生剤プラント［クリックで拡大］ 出所：ADEKA

　具体的には、先端フォトレジスト向け光酸発生剤製造設備のラインを千葉工場で増設し、生産能力を従来比で約2倍とする。着工は2027年1月で、完成は2028年2月を予定している。投資金額は約10億円となる。

　併せて、2026年7月に本格始動した半導体イノベーションセンター（埼玉県久喜市）では、EUVや高開口数（NA） EUVなどの先端世代で需要拡大が見込まれるPAGモノマー（ポリマーバウンド型）の開発／評価を加速している。今回の投資により、将来需要を見据えた供給体制の強化を2年前倒しで実行する。

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