東芝やキヤノンが優位、微細加工技術の「ナノインプリント」：知財ニュース（2/2 ページ）

数十nm単位の微細加工に適した技術「ナノインプリント」。ある種の印刷技術を使って樹脂表面などに微細なパターンを転写する米国の大学発の先進技術だ。同技術の特許出願状況を調査したパテント・リザルトによれば、強い特許を持つ上位5社の中に、日本企業として東芝、キヤノン、富士フイルムが入った。

[畑陽一郎，MONOist]

特許出願傾向が増加中

　ナノインプリントの研究開発は「隠れている」ようだ。パテント・リザルトによれば、同技術はニュースとしての関心がそれほど高まっていない。しかし、特許出願状況はニュースの数とは全く違う傾向を示しているのだという（図2）。図2を見ると、特に審査中の特許の本数の伸びが目を引く（2010年以降の出願は一部しか公開されていない）。

図2　ナノインプリント関連の特許の状況　特許の状態を6種類（権利継続、審査中、出願のみ、取り下げ、拒絶、失効）に分類して年ごとに積み上げたもの。出典：パテント・リザルト

　このような伸びを支えているのが、東芝と富士フイルムの出願だという（図3）。

図3　企業ごとの出願件数　富士フイルム（桃色）と東芝（空色）の出願件数が全体を底支えしているという。出典：パテント・リザルト

技術動向はどうなっている

　パテント・リザルトは上位5社の技術動向についても調査した。特許庁のテーマコード分類を使った調査だ（図4）。

図4　企業ごとの注力分野の推移　東芝と富士フイルムが当初注力していた3つのテーマコードに赤い下線を引いて示した。近年ではテーマコードの先頭に示された5F146（円グラフの12時から時計回りに示されたシアン色の部分）の比率が高まっている。他方、富士フイルムは6番目（4J100）と8番目（2H125）の比率が高い（クリックで拡大）。出典：パテント・リザルト

　図4にあるように、東芝と富士フイルムは、当初、ナノインプリント技術を磁気記録媒体（DTM、BPM）の製造プロセスとして捉えていたようだ（図4にある5D006、5D074、5D112）。しかし、これらの分類に入る出願は減っており、半導体露光用途（5F146）が増えている。

　一方、富士フイルムは樹脂材料（4J100、2H125）が増えている（図5）。

図5　富士フイルムの注力分野　出典：パテント・リザルト

　パテント・リザルトは、今回の分析について詳細にまとめた複数のリポート資料を販売している。

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